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    一種可直接光刻圖形化的納米多孔材料及其制備方法專利登記公告


    專利名稱:一種可直接光刻圖形化的納米多孔材料及其制備方法

    摘要:本發明公開了屬于多孔材料及微加工技術領域的一種可直接光刻圖形化的納米多孔材料及其制備方法。該類材料的前驅體為納米模板材料與光刻膠的混合物,混合物仍具有光刻膠的基本物理性質,通過標準光刻工藝在襯底上成膜并實現微小尺寸的圖形結構。直接對具有圖形結構的混合物進行化學刻蝕去除模板材料,形成多孔聚合物膜;或者將具有圖形結構的混合物在高溫下碳化,再去除模板材料,形成多孔碳膜。本發明通過一步標準光刻工藝及一次刻蝕直接在襯底上實現了具有微米尺寸圖形的納米多孔聚合物或碳膜,其操作簡單,成本低,且具有極好的與其他微型電子機械

    專利類型:發明專利

    專利號:CN201210151084.X

    專利申請(專利權)人:清華大學

    專利發明(設計)人:王曉紅;申采為

    主權項:一種可直接光刻圖形化的納米多孔材料,其特征在于,所述的納米多孔材料為具有圖形結構的納米多孔聚合物膜或納米多孔碳膜材料。

    專利地區:北京

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